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致敬攀登者:中微半导体的“勇敢者游戏”
作者:lol菠菜 发布时间:2020-12-27 10:46

  攀登者精神,是永不止步的攀登精神,不断以坚韧、求知、探索的精神追寻极限。有这么一群行业攀登者,他们深入行业纵深,探索需求的极限;深入行业细节,探索场景的极限;深入科技科研,探索创新的极限。

  半导体的芯片产业,包括设计、芯片制造、到设备材料,每一步都是非常精密,需要产业积累的。这条攀登者的路,艰难而又孤独。中微半导体就是其中一家。

  中芯国际创始人江上舟,在2003年上海世界半导体设备展看到了应用材料公司的等离子刻蚀机产品,感觉非常震撼。

  2004年5月31日,中微半导体设备(上海)有限公司成立,尹志尧担任公司董事长兼总裁。

  中微半导体认定介质刻蚀设备将是未来的主流,通过全新的工艺和技术,以自主创新的介质刻蚀设备为突破口,抢占被国际巨头垄断的市场份额。

  知易行难,中微半导体面临着一没钱、二没人的窘境。作为技术密集型行业,半导体设备业不仅需要极为精专的人才,而当时在国内,无论是高校还是产业界,对于刻蚀机的理解基本属于空白。

  截至2018年末,中微半导体已拥有研发和工程技术人员381名,占员工总数的58%,涵盖了物理、化学、数学、工程技术、特种工程技术等相关学科的专业人员。

  中微半导体多年来聚焦于集成电路、LED芯片等微观器件领域的等离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备和MOCVD设备等关键设备的研发、生产和销售。如今已研发成功5nm等离子体刻蚀设备应用。

  从2004年到2020年,16年的时间历程,中微半导体实现了多次技术突破。

  中微半导体设备信息部总经理王兰说,“半导体行业从早期的几十纳米一直发展到现在中微7纳米、5纳米的设备,这在当年来看是很难想到的。当时业界曾经认为,半导体的发展已经快到物理极限了,但是今天极限仍然在被一次次突破,仍在不断的验证着摩尔定律。”

  “要成为世界一流的企业,就一定在自己的技术上登峰造极,那么对企业IT来说也是一样,因为IT技术日新月异,每一个IT人都要不断去学习,不断的突破自己,去迈向一个新的高度。”王兰说,“中微半导体今年的年会主题就是勇攀高峰,我们希望通过团队的力量,与上下游大量的合作伙伴共同成长,共攀高峰。比如我们就选择了戴尔这样的合作伙伴,帮助我们实现IT基础架构的升级,戴尔长期稳定的产品质量和服务,可以让我们共同发展,成为攀登高峰的同行者。”

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